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BOC247
Issue Date:9th May 2005

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Neue Anlage für Vakuum-Dünnschicht-Verfahren bietet gesteigerte Produktivität und Flexibilität

.Die TF600 ist BOC Edwards’ jüngster Beitrag zum Programm an hochentwickelten Anlagen für Vakuum-Dünnschicht-Verfahren. Sie kombiniert Vakuumkammern von 600 mm Durchmesser mit leistungsstarken, auf Wunsch trockenverdichtenden Vakuumpumpständen. Das neue System gewährleistet gesteigerte Produktivität und Flexibilität sowohl beim Einsatz in F&E wie auch in der Produktion, etwa im Bereich Halbleiter, Laser und Analytik.

Die TF600 bietet zahlreiche neue Konstruktionsmerkmale, wie z.B. die Anbringung der Hochvakuumpumpe an der Kammer-Rückseite, was die Abpumpzeiten drastisch verkürzt. Als Pumpsystem stehen außer Diffusions- und Kryopumpen auch Turbomolekularpumpen mit Magnetlagerung oder mechanischen Lagern aus dem Hause BOC Edwards zur Verfügung. Zum Anpumpen der Kammern wie auch als Haltepumpen kommt die wartungsarme BOC Edwards’ XDS35i Scroll-Pumpe zum Einsatz, die im Vakuumbereich keinerlei Lager oder Schmiermittel benötigt und somit höchsten Sauberkeitsanforderungen entspricht.

Jede Anlage wird auf die speziellen Bedürfnisse des Anwenders zugeschnitten: zur Auswahl stehen Quellen für Widerstandsverdampfung, Elektronenstrahlverfahren, HF-, DC und Puls-DC-Sputtern. Mit verschiedenen Kammerhöhen, Schleusen-Optionen und Quellen-Konfigurationen ermöglicht die TF600 dem Anwender die Nutzung einer Vielzahl von Verfahren und Sondertechniken wie Lift-Off oder Ionenstrahlunterstützung.

For further information contact
Andrew Davis, BOC Edwards. Manor Royal, Crawley, RH10 9LW
Tel: 01293 603134 Fax: 01293 534149
email: andrewdavis@edwards.boc.com
Website: http://www.edwards.boc.com

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BOC247
Issue Date:9th May 2005

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Il nuovo sistema di metallizzazione offre maggiore produttività e flessibilità per i processi di deposizione di film sottili.

.BOC Edwards ha introdotto un nuovo metallizzatore sotto vuoto alla sua gamma di sistemi per processi di deposizione di film sottili. Il modello TF600 abbina, ad una ampia camera, un sistema di pompaggio per vuoto ad alto rendimento. Il nuovo sistema è progettato per garantire produttività e flessibilità a coloro che operano nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di substrati quali quelli utilizzati nell’industria nei semiconduttori, dei laser e nelle industrie scientifiche.

Ill TF600 incorpora nuove caratteristiche di progetto quale il posizionamento del gruppo di pompaggio ad alto vuoto nella parte posteriore della camera, per favorire una evacuazione più veloce. Le opzioni del sistema di pompaggio includono pompe per alto vuoto a diffusione, turbomolecolari e criogeniche, mentre la pompa a secco XDS 35ï viene utilizzata come pompa di evacuazione primaria.

Ogni sistema TF600 viene personalizzato sulla base delle esigenze specifiche dell'utente. Le opzioni per il processo includono: evaporazione a resistenza, a fascio elettronico, RF, vaporizzazione ionica a CC e a CC modulata. Inoltre il TF600 dispone di una varietà di altezze di camera, di opzioni di carico e di configurazioni multiple di sorgente, e mette dunque a disposizione degli utenti una vasta gamma di applicazioni e tecniche specialistiche quali il lift off e i trattamenti con fascio ionico.

lIl TF600 si aggiunge alla fortunata gamma BOC Edwards di sistemi di deposizione di film sottili che include anche i sistemi a fascio elettronico Temescal. Sono inoltre disponibili anche l'evaporatore “entry level” Auto306 ed l’Auto500, che offrono opzioni supplementari di deposizione e di camera.

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Andrew Davis, BOC Edwards. Manor Royal, Crawley, RH10 9LW
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email: andrewdavis@edwards.boc.com
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